Steuerung des Wafernahen Drucks zur Plasma Einschränkung

EP1323179 Art B1 6. November 2013

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1323179
Aktenzeichen
EP01977828
Anmeldetag
26. September 2001
Veröffentlichung
6. November 2013
Erteilung
6. November 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Vertreten von
Kontrus, Gerhard Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
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