Metalloxid Halbleiter-Dünnschicht und Herstellungsverfahren

EP1324398 Art A3 16. Mai 2007

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1324398
Aktenzeichen
EP02258551
Anmeldetag
11. Dezember 2002
Veröffentlichung
16. Mai 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L31/18H01L33/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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