Schnelles Siliziumätzverfahren
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Toshiba Memory Corporation, Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1329948
- Aktenzeichen
- EP01967676
- Anmeldetag
- 13. September 2001
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/3213
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Toshiba Memory Corporation
Kabushiki Kaisha Toshiba - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
13.633 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Stuttgarter Kanzlei, die Patentanwälte und Rechtsanwälte unter einem Dach vereint, registriert beim Deutschen Patent- und Markenamt sowie beim EUIPO in Alicante. Als Vertreter vor dem Einheitlichen Patentgericht zugelassen, mit Auslandsnetzwerken unter dem Motto „Your innovation is in good hands“.
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Brisch, Georg
NoneStuttgart