Ionenimplantierung mit Dualer Betriebsweise mittels nicht Parallelen Ionenstrahlen
EP1330832
Art A2
30. Juli 2003
Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1330832
- Aktenzeichen
- EP01981450
- Anmeldetag
- 11. Oktober 2001
- Veröffentlichung
- 30. Juli 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.
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Beck, Simon Antony
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