Anode mit Poröser Isolierschicht für Entladungslaser

EP1330860 Art B1 17. Juni 2009

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1330860
Aktenzeichen: EP01983106
Anmeldetag: 8. Oktober 2001
Veröffentlichung: 17. Juni 2009
Erteilung: 17. Juni 2009
Rechtsraum: EP
IPC: H01S3/225H01S3/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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