Verfahren und deren Maske zur Musterherstellung in einer Polymerschicht
EP1331516
Art B1
20. Dezember 2006
Anmelder: Hewlett-Packard Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1331516
- Aktenzeichen
- EP03250420
- Anmeldetag
- 23. Januar 2003
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2006
- Erteilung
- 20. Dezember 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hewlett-Packard Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Hewlett-Packard
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien. Aktiv in Computerhardware, Druckern, Speicherlösungen sowie Unternehmens-IT und Cloud-Infrastruktur.
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Vertreten von
Tollett, Ian
Bromley, Großbritannien
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