Plasmaröntgenquelle in einer Vakuumkammer, mit verringerter Aufheizung der darin befindlichen Komponenten, und Mikrolithographiesystem das diese enthält
EP1335640
Art A3
21. Februar 2007
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1335640
- Aktenzeichen
- EP03002336
- Anmeldetag
- 3. Februar 2003
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
5.286 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Meddle, Alan Leonard
NoneMünchen