Abgestufte Obere Elektrode für Plasmabehandlungsgleichmässigkeit

EP1336191 Art B1 23. Dezember 2009

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1336191
Aktenzeichen
EP01979979
Anmeldetag
10. Oktober 2001
Veröffentlichung
23. Dezember 2009
Erteilung
23. Dezember 2009
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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