Resistzusammensetzung für Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen oder Extrem-Ultraviolett-Strahlung

EP1338921 Art A3 12. Dezember 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fuji Photo Film Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1338921
Aktenzeichen: EP03002684
Anmeldetag: 12. Februar 2003
Veröffentlichung: 12. Dezember 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fuji Photo Film Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, ursprünglich als Fuji Photo Film gegründet, heute aktiv in Fotografie, Bildgebung, medizinischer Diagnostik und Spezialchemie.

1.748 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von