Schutzüberschichtung für Replizierte Beugungsgitter

EP1340106 Art B1 9. Januar 2008

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1340106
Aktenzeichen: EP01987291
Anmeldetag: 7. November 2001
Veröffentlichung: 9. Januar 2008
Erteilung: 9. Januar 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G02B5/18C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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