Verfahren und Vorrichtung zur Atmospärischen Plasmabearbeitung

EP1340838 Art A1 3. September 2003

Anmelder: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1340838
Aktenzeichen
EP01996640
Anmeldetag
14. November 2001
Veröffentlichung
3. September 2003
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/54H01L21/205H01L21/31H01L21/302
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

1.407 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen