System und Verfahren zur Anwendung einer zweiteiligen Abdeckung zum Schutz einer Fotomaske
EP1341042
Art A3
31. März 2004
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Holding, N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1341042
- Aktenzeichen
- EP03003288
- Anmeldetag
- 24. Februar 2003
- Veröffentlichung
- 31. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/00G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Holding, N.V.
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
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2
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Schwerpunkte
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-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München