Projektionssystem für die Euv-Lithographie

EP1342128 Art A2 10. September 2003

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1342128
Aktenzeichen
EP01270809
Anmeldetag
6. Dezember 2001
Veröffentlichung
10. September 2003
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kanzlei
Sawodny Patentanwalt Ulm, Deutschland

Sawodny Patentanwalt (Dr. Michael Sawodny), Teil des Kanzleiverbunds AKLaw mit Standorten in München und Ulm. Seit 1995 im Patent- und Markenrecht tätig, seit 1996 als European Patent and Trademark Attorney, mit Schwerpunkten in Materialwissenschaften, Optik und Maschinenbau.

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