Anordnung und System zur Verbesserung der Abbildungsgenauigkeit einer Phasenverschiebungsmaske und verwandte Verfahren
EP1343050
Art A3
19. Mai 2004
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Holding, N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1343050
- Aktenzeichen
- EP03004859
- Anmeldetag
- 5. März 2003
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Holding, N.V.
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
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Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München