Silikatglas mit hoher Beständigkeit, Verfahren zu dessen Herstellung, dieses enthaltendes Element, und damit versehende Vorrichtung

EP1344752 Art B8 26. Dezember 2018

Anmelder: TOSOH CORPORATION, Tosoh Quartz Corporation, TOSOH SGM CORPORATION, Tosoh Corporation, Tosoh Sgm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1344752
Aktenzeichen
EP03004983
Anmeldetag
11. März 2003
Veröffentlichung
26. Dezember 2018
Erteilung
26. Dezember 2018
Rechtsraum
EP
IPC
C03C3/085C03C3/095
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
TOSOH CORPORATION
Tosoh Quartz Corporation
TOSOH SGM CORPORATION
Tosoh Corporation
Tosoh Sgm Corporation
Land
🇯🇵 Japan

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe
Vertreten von
Pautex Schneider, Nicole Véronique Onex, Schweiz
1.477
Patente gesamt
31
Fachgebiete
13
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Nachrichtentechnik & Telekommunikation Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Akustik, Musik & Datenspeicherung Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
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