Silikatglas mit hoher Beständigkeit, Verfahren zu dessen Herstellung, dieses enthaltendes Element, und damit versehende Vorrichtung
EP1344752
Art B8
26. Dezember 2018
Anmelder: TOSOH CORPORATION, Tosoh Quartz Corporation, TOSOH SGM CORPORATION, Tosoh Corporation, Tosoh Sgm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1344752
- Aktenzeichen
- EP03004983
- Anmeldetag
- 11. März 2003
- Veröffentlichung
- 26. Dezember 2018
- Erteilung
- 26. Dezember 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03C3/085C03C3/095
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOSOH CORPORATION
Tosoh Quartz Corporation
TOSOH SGM CORPORATION
Tosoh Corporation
Tosoh Sgm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tosoh Corporation
Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.
1.003 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Pautex Schneider, Nicole Véronique
Onex, Schweiz
1.477
Patente gesamt
31
Fachgebiete
13
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Pautex Schneider, Nicole
NoneLes Avanchets