Bilden einer Zusammengesetzten Druckmembran mit Implantationen, Epitaxie und einer Siliziumnitrid Schicht
EP1348110
Art B1
18. Mai 2005
Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1348110
- Aktenzeichen
- EP01988501
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2001
- Veröffentlichung
- 18. Mai 2005
- Erteilung
- 18. Mai 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01L7/08H01L29/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Honeywell International Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
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Haley, Stephen
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