Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1349010
Art B1
10. Dezember 2014
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1349010
- Aktenzeichen
- EP03251896
- Anmeldetag
- 26. März 2003
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2014
- Erteilung
- 10. Dezember 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon