Kontrolle der Substratbearbeitung mittels Reflektierter Strahlung
EP1352415
Art A2
15. Oktober 2003
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1352415
- Aktenzeichen
- EP01988945
- Anmeldetag
- 23. Oktober 2001
- Veröffentlichung
- 15. Oktober 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/15H01L21/66G01N21/95G01B11/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
655
Patente gesamt
33
Fachgebiete
15
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