Höhere-Silane-Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Siliziumfilms
EP1357154
Art B1
23. Mai 2012
Anmelder: Seiko Epson Corporation, JSR Corporation, SEIKO EPSON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1357154
- Aktenzeichen
- EP03252524
- Anmeldetag
- 22. April 2003
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2012
- Erteilung
- 23. Mai 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D183/16C08L83/16C08G77/60C09D1/00C01B33/04C07F7/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Seiko Epson Corporation
JSR Corporation
SEIKO EPSON CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Epson
Japanisches Unternehmen, das Drucker, Scanner, Projektoren sowie Uhrwerke und Sensortechnik entwickelt und herstellt.
7.261 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Sturt, Clifford Mark
London, Großbritannien
883
Patente gesamt
28
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte