Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Siliziumnitrid-Filmes

EP1357202 Art B1 10. Dezember 2008

Anmelder: Canon Anelva Corporation, MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA, ANELVA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1357202
Aktenzeichen: EP03009084
Anmeldetag: 19. April 2003
Veröffentlichung: 10. Dezember 2008
Erteilung: 10. Dezember 2008
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/44C23C16/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Canon Anelva Corporation
MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA
ANELVA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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🇯🇵 Mitsubishi Electric

Japanisches Unternehmen, das Elektro- und Elektroniktechnik entwickelt und herstellt, darunter Automatisierung, Energie-, Klima- und Fahrzeugtechnik.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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