Methode zum Anordnen von Mustern auf einer Maske sowie zur Bestimmung der Belichtungsparameter
EP1357426
Art A3
23. November 2005
Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1357426
- Aktenzeichen
- EP02256555
- Anmeldetag
- 20. September 2002
- Veröffentlichung
- 23. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CANON KABUSHIKI KAISHA
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.
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Vertreten von
Beresford, Keith Denis Lewis
London, Großbritannien
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