Linienbreitensteuerung unter Verwendung einer Winkelverteilung der Strahlungsintensität in Abhängigkeit von der Position im Beleuchtungsfeld

EP1357430 Art A3 7. September 2005

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1357430
Aktenzeichen
EP03008807
Anmeldetag
23. April 2003
Veröffentlichung
7. September 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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