Linienbreitensteuerung unter Verwendung einer Winkelverteilung der Strahlungsintensität in Abhängigkeit von der Position im Beleuchtungsfeld
EP1357430
Art A3
7. September 2005
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1357430
- Aktenzeichen
- EP03008807
- Anmeldetag
- 23. April 2003
- Veröffentlichung
- 7. September 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML US, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München