System und Verfahren zur verbesserten Kontrolle der Linienbreite in einem lithographischem Gerät unter Verwendung eines Beleuchtungssystems mit Vorkontrolle der numerischen Apertur
EP1357431
Art A3
1. Oktober 2008
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1357431
- Aktenzeichen
- EP03008808
- Anmeldetag
- 23. April 2003
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML US, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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18
Fachgebiete
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Schwerpunkte
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-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München