Halter, lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP1359469 Art B1 2. März 2011

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1359469
Aktenzeichen
EP03252747
Anmeldetag
29. April 2003
Veröffentlichung
2. März 2011
Erteilung
2. März 2011
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F9/00H01L21/00H01L21/68
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen