Plasma-CVD-Vorrichtung
EP1359611
Art B1
11. September 2013
Anmelder: IHI Corporation, Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1359611
- Aktenzeichen
- EP02715845
- Anmeldetag
- 21. Januar 2002
- Veröffentlichung
- 11. September 2013
- Erteilung
- 11. September 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C16/509
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IHI Corporation
Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
1.709 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Mai, Dörr, Besier
Wiesbaden, Deutschland
575
Patente gesamt
26
Fachgebiete
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