Steuerung eines lithographischen Apparates
EP1361479
Art B1
15. März 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1361479
- Aktenzeichen
- EP03252890
- Anmeldetag
- 8. Mai 2003
- Veröffentlichung
- 15. März 2006
- Erteilung
- 15. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01S3/134
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
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