Vorrichtung und Verfahren zum Zuführen eines in die Gasform Gebrachten Flüssigen Ausgangsstoffes in einen Cvd-Reaktor
Anmelder: AIXTRON AG, Aixtron AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1364076
- Aktenzeichen
- EP01996637
- Anmeldetag
- 27. Oktober 2001
- Veröffentlichung
- 28. März 2007
- Erteilung
- 28. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/448C23C18/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- AIXTRON AG
Aixtron AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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Fachgebiete
Die Wuppertaler Kanzlei geht auf Johannes Rieder zurück, der schon vor dem ersten deutschen Patentanwaltsgesetz von 1900 als Berater für Erfinder tätig war. Mit über hundertjähriger Kontinuität am Standort zählt sie zu den traditionsreichsten Patentanwaltspraxen im Bergischen Land.