Methode zum Gleichmässigen Beschichten eines Substrats
EP1364255
Art A2
26. November 2003
Anmelder: ASML Holding N.V., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1364255
- Aktenzeichen
- EP02713590
- Anmeldetag
- 12. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 26. November 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16B05D1/00B05D3/04B05C11/02H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
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W.P. Thompson & Co
W.P. Thompson & Co · Liverpool