Methode zum Gleichmässigen Beschichten eines Substrats
EP1364256
Art A2
26. November 2003
Anmelder: ASML Holding N.V., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1364256
- Aktenzeichen
- EP02721101
- Anmeldetag
- 21. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 26. November 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16B05D1/00B05D3/04B05C11/02H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
W.P. Thompson & Co
W.P. Thompson & Co · Liverpool