Verfahren zum Herstellen einer Vorform mittels einer Vorrichtung zur thermischen Behandlung

EP1367028 Art B1 26. September 2007

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1367028
Aktenzeichen: EP03090161
Anmeldetag: 28. Mai 2003
Veröffentlichung: 26. September 2007
Erteilung: 26. September 2007
Rechtsraum: EP
IPC: C03B37/014C03B37/018

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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