Katadioptrisches lithographisches System mit Trägerplattevorrichtungen für Retikel und Wafer in zueinander orthogonalen Ebenen
EP1367444
Art A3
15. Juni 2005
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Holding, N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1367444
- Aktenzeichen
- EP03011639
- Anmeldetag
- 22. Mai 2003
- Veröffentlichung
- 15. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Holding, N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München