Verfahren zum Ätzen eines Organischen Isolationsfilms und Doppel-Damaskus-Prozess

EP1367638 Art A1 3. Dezember 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1367638
Aktenzeichen: EP02701589
Anmeldetag: 27. Februar 2002
Veröffentlichung: 3. Dezember 2003
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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