Verfahren und Verdampfungslösung zur Spülung einer Entwickelten Photoresistschicht
EP1368824
Art A1
10. Dezember 2003
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1368824
- Aktenzeichen
- EP02725153
- Anmeldetag
- 14. März 2002
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311G03F7/40H01L21/027G03F7/42C11D11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
1.708 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Wright, Hugh Ronald
London, Großbritannien
229
Patente gesamt
19
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte