Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP1369744 Art A1 10. Dezember 2003

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1369744
Aktenzeichen
EP03253495
Anmeldetag
4. Juni 2003
Veröffentlichung
10. Dezember 2003
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G02B1/10G21K1/06G02B5/08H01L21/00G02B1/11
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen