Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP1369745 Art B1 27. Februar 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1369745
Aktenzeichen
EP03253564
Anmeldetag
5. Juni 2003
Veröffentlichung
27. Februar 2013
Erteilung
27. Februar 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20B23Q1/58B23Q11/00B60T13/74G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen