Verfahren und Vorrichtung zur Gleichmässigkeitseinstellung Gerasteter Strahlen in Ionenimplantierungsgeräten

EP1371080 Art A2 17. Dezember 2003

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1371080
Aktenzeichen
EP02719236
Anmeldetag
14. März 2002
Veröffentlichung
17. Dezember 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/304H01J37/317
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

690 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen