Methode und Vorrichtung zur Kompensation transienter thermischer Belastung eines Photolithographiespiegels

EP1372009 Art B1 4. Oktober 2006

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Holding, N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1372009
Aktenzeichen: EP03013654
Anmeldetag: 16. Juni 2003
Veröffentlichung: 4. Oktober 2006
Erteilung: 4. Oktober 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G02B7/18G03F7/20G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML Holding, N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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