Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1372040
Art B1
5. März 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1372040
- Aktenzeichen
- EP03253494
- Anmeldetag
- 4. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 5. März 2008
- Erteilung
- 5. März 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte