Verfahren zur Overlay-Einstellung zweier Maskenebenen bei einem photolithographischen Prozess
EP1373982
Art B1
30. November 2005
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1373982
- Aktenzeichen
- EP02727401
- Anmeldetag
- 12. März 2002
- Veröffentlichung
- 30. November 2005
- Erteilung
- 30. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Fachgebiete
Vertreten von
Barth, Stephan Manuel
München, Deutschland
961
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-
Barth, Stephan, Dr
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