Verfahren zur Ätzung einer Organischen Antireflektionsschicht

EP1374288 Art A2 2. Januar 2004

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1374288
Aktenzeichen
EP02717545
Anmeldetag
21. März 2002
Veröffentlichung
2. Januar 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/311H01L21/768B81C1/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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