System und Verfahren zur automatisierten Fokusmessung eines lithographischen Gerätes
EP1376052
Art A3
2. August 2006
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Holding, N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1376052
- Aktenzeichen
- EP03013854
- Anmeldetag
- 18. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 2. August 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01B11/25// G03B27/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Holding, N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München