Soi-Wafer und Verfahren zu Seiner Herstellung

EP1376700 Art A1 2. Januar 2004

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1376700
Aktenzeichen
EP02707249
Anmeldetag
29. März 2002
Veröffentlichung
2. Januar 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

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