Hochauflösende Resists für die Lithographie der Nächsten Generation
EP1377876
Art A1
7. Januar 2004
Anmelder: Gonsalves, Kenneth E., University of North Carolina at Charlotte, The University of Connecticut, UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHARLOTTE 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1377876
- Aktenzeichen
- EP02723388
- Anmeldetag
- 11. März 2002
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03C1/725G03F7/039G03F7/075G03F7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Gonsalves, Kenneth E.
University of North Carolina at Charlotte
The University of Connecticut
UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHARLOTTE - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
University of Connecticut
Der Anmelder ist eine US-amerikanische öffentliche Universität im Bundesstaat Connecticut. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und organische Chemie sowie auf Pharma- und Biotechnologie, Verfahrenstechnik und Kunststofftechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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Vertreten von
Bannerman, David Gardner
London, Großbritannien
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