Basen und Tenside Enthaltende Photoresistzusammensetzungen für die Mikrolithographie
EP1379920
Art A2
14. Januar 2004
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1379920
- Aktenzeichen
- EP01989773
- Anmeldetag
- 26. November 2001
- Veröffentlichung
- 14. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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Towler, Philip Dean
London, Großbritannien
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