Zns-SIO2-Sputtering-Target und Optisches Aufzeichnungsmedium mit Zns-SIO2-Schutzfilm für eine durch Verwendung des Targets Ausgebildete Optische Platte des Phasenänderungstyps
EP1380670
Art A1
14. Januar 2004
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Co., Ltd., Nikko Materials Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1380670
- Aktenzeichen
- EP02710302
- Anmeldetag
- 16. Januar 2002
- Veröffentlichung
- 14. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C23C14/06C23C14/08G11B7/24G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Co., Ltd.
Nikko Materials Company, Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
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Meddle, Alan Leonard
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