Inspektionsmikroskop für Mehrere Wellenlängenbereiche und Reflexionsminderungsschicht für ein Inspektionsmikroskop für Mehrere Wellenlängenbereiche
EP1381901
Art A1
21. Januar 2004
Anmelder: Leica Microsystems CMS GmbH, Leica Microsystems Semiconductor GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1381901
- Aktenzeichen
- EP02706779
- Anmeldetag
- 22. März 2002
- Veröffentlichung
- 21. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B21/16G02B1/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Leica Microsystems CMS GmbH
Leica Microsystems Semiconductor GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Leica Microsystems
Deutsches Unternehmen für optische und digitale Mikroskopie, entwickelt Mikroskope und Bildgebungssysteme für Forschung, Industrie und medizinische Diagnostik.
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Fachgebiete
Vertreten von
Reichert, Werner Franz
Wetzlar, Deutschland
423
Patente gesamt
31
Fachgebiete
18
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Reichert, Werner F., Dr
NoneWetzlar