Ein Verfahren zum Erzeugen einer Hohlen Struktur aus einer Silizium-Struktur

EP1382565 Art B1 29. Dezember 2010

Anmelder: KABUSHIKI KAISHA TOYOTA CHUO KENKYUSHO, Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1382565
Aktenzeichen: EP02707133
Anmeldetag: 22. März 2002
Veröffentlichung: 29. Dezember 2010
Erteilung: 29. Dezember 2010
Rechtsraum: EP
IPC: B81C1/00H01L21/302H01L21/00B81B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: KABUSHIKI KAISHA TOYOTA CHUO KENKYUSHO
Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho

Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho, bekannt als Toyota Central R&D Labs, ist die zentrale Forschungseinrichtung des japanischen Toyota-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Verfahrenstechnik, ergänzt um Werkstoffchemie und Antriebstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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