Polycyclische, Fluor Enthaltende Polymere und Photoresist für Mikrolithographie
EP1383812
Art B1
31. Mai 2006
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1383812
- Aktenzeichen
- EP02757868
- Anmeldetag
- 27. März 2002
- Veröffentlichung
- 31. Mai 2006
- Erteilung
- 31. Mai 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08F232/08G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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Fachgebiete
Vertreten von
Morf, Jan Stefan
München, Deutschland
949
Patente gesamt
33
Fachgebiete
13
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Freiherr von Wittgenstein, Arved, Dr
NoneMünchen