Belichtungsgerät für die EUV-Lithographie mit einem eine selbstausrichtende Monoschicht enthaltendem optischen Element, optisches Element mit selbstausrichtender Monoschicht, Methode zum Aufbringen einer solchen Schicht und Verfahren zur Erzeugung eines Geräts
EP1385051
Art A1
28. Januar 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1385051
- Aktenzeichen
- EP03253728
- Anmeldetag
- 12. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 28. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20G02B1/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon