Laserspektraltechnik für einen Lithographischen Prozess

EP1386376 Art B1 1. September 2010

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1386376
Aktenzeichen: EP02731433
Anmeldetag: 19. April 2002
Veröffentlichung: 1. September 2010
Erteilung: 1. September 2010
Rechtsraum: EP
IPC: H01S3/10H01S3/22H01S3/223H01S3/13H01S3/139

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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